在電子元器件的生產(chǎn)過程中，無論是清洗用水，還是溶液、漿料，都需要使用超純水。集成電路的生產(chǎn)工藝是蝕刻和清洗反復(fù)進(jìn)行，清洗是半導(dǎo)體制程中重要的一環(huán)，目的是為了清洗原材料及半成品上可能存在的雜質(zhì)。數(shù)據(jù)顯示，每生產(chǎn)一片集成塊需要消耗超純水3-5升，平均一個(gè)6英寸的晶片需消耗1.2噸的超純水。全球半導(dǎo)體設(shè)備中80%為晶圓加工制造設(shè)備，清洗設(shè)備在其中占比約為8%。作為超純水的主要需求方，微電子業(yè)的迅速發(fā)展將很大推動(dòng)超純水行業(yè)的增長。(數(shù)據(jù)來源：國泰君安產(chǎn)業(yè)觀察)
與普通生活用水不同，超純水一般用于科學(xué)研究、工業(yè)制造等高品質(zhì)用水領(lǐng)域。超純水指將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水。超純水的電阻率大于18MΩ·cm，接近18.3MΩ·cm極限值。“超純”強(qiáng)調(diào)了水中各類型的污染物被去除至近乎于零的含量，和常用的術(shù)語“去離子水”不同，除了常規(guī)的表征電解質(zhì)含量的指標(biāo)(電導(dǎo)率或電阻率)外，根據(jù)應(yīng)用的不同還包括有機(jī)物和無機(jī)化合物、溶解和顆粒物質(zhì)、細(xì)菌及溶解氣體等指標(biāo)。
采用“原水來水+疊片過濾器+超濾裝置+板式換熱器+極限分離系統(tǒng)+UV+微米過濾器+EDI裝置+TOC+氮封純水箱”工藝，膜系統(tǒng)通過震動(dòng)技術(shù)增大膜表面的剪切力，防止污染物在膜表面沉積，從而實(shí)現(xiàn)較高的流速，可以處理較高固含量的物料，實(shí)現(xiàn)了進(jìn)一步濃縮及更高的回收率。通過極限分離系統(tǒng)的低能耗優(yōu)勢，大大降低了RO濃水回用系統(tǒng)的運(yùn)行成本，達(dá)到了水資源回用的目的，而且減少了廢水排放。其技術(shù)優(yōu)勢如下：
1、系統(tǒng)運(yùn)行可靠性穩(wěn)定，水質(zhì)穩(wěn)定品質(zhì)更佳。
2、運(yùn)行成本低，操作及維護(hù)簡單，無需接觸酸堿。
3、占地面積小，自動(dòng)化程度高。
4、無污水排放，無環(huán)境污染，使用安全及環(huán)境良好。
隨著國家對環(huán)保及微電子行業(yè)的重視，超純水的需求潛力逐漸展現(xiàn)出來，產(chǎn)業(yè)機(jī)會(huì)眾多。萊特萊德?lián)碛卸囗?xiàng)超純水專用膜核心技術(shù)，專業(yè)量身定制水處理方案，可將水質(zhì)達(dá)到18.2MΩ、溶解氧含量3～10ug/L，完全符合電子行業(yè)用水需求。
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